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1nm！AMSL正式宣佈，光刻機精度突破極限，變化太突然
引用:
...10月15日，據《科創板日報》訊息稱，ASML正式宣佈完成最新精度的光刻機研發，代號TWINSCANNXE:3600D，
最不可思議的是，這款光刻機可達到的製造精度高達 1.1 nm，這也就意味著1nm工藝來了！
晶片極限精度 在晶片領域，目前用得最多的是7nm晶片，而最新的5nm晶片不久後將應用在華為Mate40手機和iPhone12手機上，
這也就代表5nm晶片時代即將來臨。
可現在ASML已經突破1nm級的光刻機制造，這對於晶片的發展具有巨大的意義。
目前市場上所應用的晶片幾乎都是矽基晶片，而矽基晶片在精度上也存在極限值，
這個數就是1nm，當精度達到這個值後，即便有更高精度的光刻機，也造不出低於1nm精度的晶片。
...對於晶片未來的發展軌跡，大致可分為四個階段：
第一，5nm晶片的應用與普及。眼下最令人期待的晶片當屬麒麟9000、蘋果A14、驍龍
875，這些都是當前晶片領域的領跑者。
第二，3-2nm晶片的設計與研發。雖然ASML已經研製出1nm光刻機，但是還沒有公司
能設計出1nm晶片，所以暫時無法生產。
科技發展是一個循序漸進的過程，所以晶片的下一代繞不過2-3nm精度。
第三，1nm晶片生產。顯然，這是矽基晶片的極限精度，這同時也意味著矽基晶片走到盡頭。
第四，從矽基晶片向碳基晶片轉移。科技發展沒有盡頭，所以碳基晶片必然會被推上世界
舞臺，矽基晶片屆時也將逐漸被淘汰，這是恆古不變的真理。
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