近日，ASML總裁Peter Wennink在接受媒體采訪時，對中國自研光刻機發表了一番頗具爭議的言論。他認爲，中國自研光刻機是一種“破壞性的行爲”，會對全球晶片産業鏈造成沖擊和混亂。 他還特別點名了華爲，稱華爲是一個“非常有能力的公司”，但如果華爲想要自己制造晶片，就需要有自己的光刻機，而這樣做會“打亂”全球供應鏈的平衡。

目前，中國已經取得了一些進展和成果。例如，在DUV光刻機方面，中微公司已經成功推出了90納米、65納米、45納米、28納米等多款産品，並實現了量産交付。

在EUV光刻機方面，中科院半導體所和中科院微電子所聯合研發的EUV-7000光刻機已經完成了樣機的制造，並在2022年底實現了首次曝光。 這款光刻機的分辨率可以達到13納米，預計在2024年實現量産。 此外，中國還在研發更先進的EUV-5000光刻機，目標是實現5納米的制程水平。