華爾街日報、ZDNet等多家外電報導，IBM研究實驗室(IBM Research)9日宣布，IBM與夥伴格羅方德半導體(GlobalFoundries Inc.)、三星和紐約州立大學奈米理工學院終於突破重大瓶頸、共同打造出全球首顆7奈米晶片原型，進度超越英特爾(Intel Corp.)等競爭對手。

IBM半導體科技研究部副總裁Mukesh Khare表示，這款測試晶片首度在7奈米電晶體內加入一種叫做「矽鍺」(silicon germanium，簡稱SiGe)的材料，並採用了極紫外光(EUV)微影技術。荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾(ASML Holding NV)本身研發的EUV設備一台要價1.5億美元，相較之下他種微影系統一台售價只有5,000萬美元。

Ars Technica 9日指出，7奈米製程晶片至少還要等兩年才能具有商業用途，但IBM與其夥伴的突破仍具有重大意義。首先，這款晶片採用的製程技術低於10奈米、還是第一款使用矽鍺的10奈米以下FinFET邏輯晶片，另外也是全球第一個導入EUV技術、能有商業用途的晶片設計。

英特爾對14奈米製程技術的校正進度已延遲約六個月，目前則在開發10奈米技術、有望於2016年問世。英特爾資深主管Mark Bohr最近曾表示，該公司的7奈米製程應該不需要改用EUV設備，但他並未透露更多細節。

ASML才剛於4月22日發布新聞稿宣布，美國某大客戶已經下單，至少會訂購15台EUV微影設備，以便支援日益增多的研發作業和未來世代製程技術的試產方案。ASML執行長Peter Wennink當時說，EUV微影設備已接近大量普及的階段。

彭博社報導，英特爾是ASML在美國的最大客戶。ING Bank NV分析師Robin van den Broek當時在接受專訪時指出，這明顯是英特爾想要在7奈米製程技術中導入EUV設備，而假如以正常的報價計算，這筆訂單的金額將高達15億歐元；也就是說，英特爾已將一筆為數不小的資金投入了7奈米製程科技。den Broek還說，ASML另外兩家大客戶分別是三星與台積電(2330)，他認為這兩家業者也會跟進導入EUV。

台積電共同執行長劉德音曾在4月16日表示，台積電已開始研發7奈米製程技術，預計2017年就進入最後試產階段的風險生產(Risk Production)。

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