這樣3D立體投影技術就有開發的價值了..

https://youtu.be/lCsgZytKPv8

超逼真！俄電視台推「AI氣象女主播」　網一看秒戀愛：好正


嗯嗯，給個差評，乃不夠大 :laugh: :laugh:

連台積電的曝光機台都要上AI了
真是嚇死人

以後半導體軟體與硬體修正的學習曲線
時間與速度
不知道會縮短多少倍

沒有搭配AI的先進製程等生產線
應該會慢慢被淘汰

以後1450與網軍應該也會被AI取代
:laugh: :laugh:

之前去歐洲某半導體大型會議，就聽到它們某資深處長keynote演講
裡面就有提到它們已經用ai在分析晶片內的缺陷良率如何改善...我印象是約7nm的世代
所以你看多久前他們就這樣在拚良率了。
講的那位很有名，我就不說是脽了，
但我就是聽過那次演講，更覺得根本沒對手可以是神山的對手
只有支那白癡還在用手雕刻。 :D :D :D :D

看來過幾年科技業四大領導廠商
必定左右2奈米的生產

難怪台積電要與NV深化合作

這樣搞下去最先應用的應該是口國的直播美顏開到人神共憤吧

導進DLXX?? :laugh:

ASML/台積電2nm確定用！NVIDIA帶來芯片光刻技術大飛躍：提速40倍 | 快科技

..（3月21日），NVIDIA春季GTC技術大會召開。作為NVIDIA炫技的主要舞台，新東西可謂眼花繚亂。

其中值得關注的一項是，NVIDIA宣布推出cuLitho軟件加速庫，可以將計算光刻的用時提速40倍。

ASML/台積電2nm確定用！NVIDIA帶來芯片光刻技術大飛躍：提速40倍

所謂計算光刻就是為芯片生產制作光掩模的技術，掩膜是一種平面透明或半透明的光學元件，
上面有芯片加工所需的圖案，按照是否需要曝光將圖案轉移到光刻膠層上。

光刻加工過程開始後，通過控制光刻機的曝光和開關操作，可以將光束根據掩膜上的圖案進行分割和定位，
使得光束只照射到需要曝光的區域，從而將芯片上的圖案轉移到光刻膠層上，實施芯片光刻。

因為每種芯片都要經歷多次曝光，所以光刻中使用的掩膜數量不盡相同。
NVIDIA H100（台積電4N工藝，800億晶體管）需要89張掩膜，Intel的14nm CPU需要50多張掩膜。

此前“精雕細琢”的計算光刻依賴CPU服務器集群，現在NVIDIA表示，500套DGX H100（包含4000顆Hopper GPU）
可完成與4萬顆CPU運算服務器相同的工作量，但速度快40倍，功耗低9倍。

這意味著，GPU加速後，生產光掩模的計算光刻工作用時可以從幾周減少到八小時。


黃仁勳透露，NVIDIA已經和ASML（荷蘭阿斯麥）、台積電以及新思科技簽署技術合作，
新思甚至已經將該技術集成到其EDA工具中，將服務2nm甚至更高精度的制程。

NVIDIA認為，新技術可以實現更高的芯片密度和產量，按照更好的設計規則以及借助人工智能驅動光刻行業前進。

按照NVIDIA預估，未來幾年高NA EUV光刻機應用後，掩膜制作的計算數據量將提升10倍以上，
目前cuLitho軟件加速庫已經支持高NA EUV光刻可能用到的曲線掩膜、亞原子光致抗蝕劑掩膜等制造。