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self alignment.... 那要看論文內容細節才能知道, 但是不看好實際應用 layout 限制會很大 |
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2024-05-20, 04:47 PM
#1431
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Golden Member
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洩密 SK 海力士關鍵資料給華為,中國籍員工遭韓警方逮捕
韓聯社報導,韓國記憶體大廠 SK 海力士(SK Hynix)一女性中國籍員工, 4 月底涉嫌洩露降低晶片不良率的核心技術給中國華為被捕,韓國檢方已起訴, 法院審理中。 此員工 2013 年進入 SK 海力士不良晶片分析部門。2020~2022 年任中國分公司組長。 2022 年 6 月返回韓國後,立即辭職跳槽到華為,離職前雖無法使用隨身碟複製資料, 改列印成三千多張 A4 紙晶片工序解決方案資料。 因 SK 海力士留下列印文件紀錄故逮捕此女,洩漏資料方面 SK 海力士仍不清楚去向。 嫌犯否認將文件分批轉移至外部,但事證確鑿,4 月嫌犯入境韓國時於機場當場逮捕。 近年韓國屢傳出核心技術外洩事件,對企業造成嚴重傷害, 韓國國會推動修訂《產業技術保護法》,海外洩密犯罪罰款上限, 從 15 億韓圜提高到 65 億韓圜。美國將竊取技術視為間諜行為, 《經濟間諜法》和《防禦商業祕密法》均規定, 經濟間諜罪最高可處 15 年監禁和 500 萬美元罰款。 修正案還加重技術洩露人員罰則,技術竊取懲罰性賠償上限從三倍提高到五倍, 處罰對象從故意洩露技術者擴大到明知洩露技術者。韓國法律規定, 即使故意洩露技術到海外,也需證明技術國外有使用,此次修訂內容涵蓋明知故犯。 韓國法院也提高竊取國家關鍵技術的量刑標準。 韓國法律規定洩露關鍵國家技術處三年以上有期徒刑, 洩露至外國處 15 年以下有期徒刑,量刑標準僅 1~3.5 年, 明顯低於法定刑罰,外界詬病懲罰過輕。 故韓國最高法院量刑委員會預定本月底前完成量刑標準修訂, 將洩露國家關鍵技術的最高刑期提高到 18 年。 越薄越好,3D薄膜製程大挑戰:淺談原子層沈積技術
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2024-05-30, 11:20 AM
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